-
Английский
-
Русский
-
Английский
-
Русский
Травление
Перевод травление на английский язык
Опеределения
травление
Существительное
Процесс воздействия на поверхность материала химическими веществами для изменения его свойств или структуры, например, для создания рисунка или удаления слоя.
Травление металла позволяет создать сложные узоры на его поверхности.
Процесс нанесения рисунка на поверхность с помощью кислот или других химических веществ.
Мастер использовал травление для создания уникального орнамента на стекле.
Идиомы и фразы
травление металла
Травление металла необходимо для создания печатных плат.
etching of metal
Etching of metal is necessary for creating printed circuit boards.
травление стекла
Травление стекла позволяет создавать уникальные узоры.
etching of glass
Etching of glass allows for creating unique patterns.
химическое травление
Химическое травление применяется в микроэлектронике.
chemical etching
Chemical etching is used in microelectronics.
травление поверхности
Травление поверхности улучшает адгезию краски.
surface etching
Surface etching improves paint adhesion.
травление кислотой
Травление кислотой используется для подготовки металлов.
acid etching
Acid etching is used for preparing metals.
Примеры
· Травление: после процесса обезжиривания следующей стадией является травление, когда разбавленный раствор горячей серной кислоты удаляет поверхностную ржавчину и окалину, чтобы получить химически чистую металлическую поверхность.
· Pickling: After the process of degreasing, the next step is pickling where a dilute solution of hot sulfuric acid removes surface rust and mill scale to provide a chemically clean metallic surface.
Глубокое реактивно-ионное травление (DRIE) является улучшением этого процесса, что позволяет осуществить более глубокое травление с высокими пропорциями.
Deep reactive-ion etching (DRIE) is an improvement of this process that allows for deeper etching with high aspect ratios.
Сухое травление может объединять химическое травление с физическим травлением или ионной бомбардировкой материала.
Dry etching can combine chemical etching with physical etching, or ion bombardment of the material.
Сухое травление, при котором полупроводниковая подложка погружается в плазму, содержащую травящие реагенты; химическая реакция травления происходит с одинаковой скоростью в любом направлении, то есть травление изотропно; может быть очень избирательным; используется тогда, когда не требуется направленность (анизотропия) травления, например при удалении резиста.
Dry etching in which semiconductor wafer is immersed in plasma containing etching species; chemical etching reaction is taking place at the same rate in any direction, i.e. etching is isotropic; can be very selective; used in those applications in which directionality (anisotropy) of etching in not required, e.g. in resist stripping.
Изучая реактивное ионное травление кремниевой поверхности, исследователи обнаружили неожиданный факт – поверхность кремниевой подложки при травлении без какой либо маски (травление обычно используют при литографии, для получения на кремниевой поверхности нужного рисунка) заметно темнела.
By studying the reactive ion etching of silicon surfaces, the researchers found an unexpected fact - the surface of a silicon substrate by etching without any mask (etching is usually used in lithography to produce the silicon surface of the right figure) is noticeably darkened.